取引先 エア・ウォーター株式会社様 納入先 国立研究開発法人 産業技術総合研究所様 仕様 ・成膜室２チャンバー・ロードロック室・CVD装置・成膜チャンバー到達真空度5.0×10E-8Pa・プロセスガス導入・1000℃加熱 ・基板4インチ～8インチ対応
